Determining plasma processing system readiness without generating plasma

WO2011008376 Art A2 20. Januar 2011

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011008376
Aktenzeichen: EP10800216
Anmeldetag: 9. Juni 2010
Veröffentlichung: 20. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66H01L21/02H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von