High Dielectric Constant Films Deposited At High Temperature By Atomic Layer Deposition

WO2011010186 Art A1 27. Januar 2011

Anmelder: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011010186
Aktenzeichen: EP09786677
Anmeldetag: 22. Juli 2009
Veröffentlichung: 27. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Air Liquide

Französischer Konzern für Industriegase und medizinische Gase, gegründet 1902 auf Basis des Luftverflüssigungsverfahrens von Georges Claude. Beliefert Industrie, Gesundheitswesen und Elektronikfertigung mit Gasen und Anlagentechnik.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von