Resist for electron beam lithography, and method for developing resist for electron beam lithography

WO2011010771 Art A1 27. Januar 2011

Anmelder: SNU R&DB Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011010771
Aktenzeichen: EP09847610
Anmeldetag: 7. September 2009
Veröffentlichung: 27. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SNU R&DB Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 SNU R&DB Foundation

Südkoreanische Stiftung der Seoul National University für Forschungsförderung und Technologietransfer, verwaltet Patente und Kooperationen mit der Industrie.

592 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von