Component of an euv or uv lithography apparatus and method for producing it

WO2011012144 Art A1 3. Februar 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011012144
Aktenzeichen: EP09777536
Anmeldetag: 30. Juli 2009
Veröffentlichung: 3. Februar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B29D11/00G02B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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