Pattern evaluation method, device therefor, and electron beam device

WO2011013342 Art A1 3. Februar 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011013342
Aktenzeichen: EP10804095
Anmeldetag: 26. Juli 2010
Veröffentlichung: 3. Februar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22G01B15/00H01J37/147H01J37/21H01J37/28H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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