Plasma processing apparatus, method for using plasma processing apparatus, and method for cleaning plasma processing apparatus

WO2011013458 Art A1 3. Februar 2011

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha, Nissin Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011013458
Aktenzeichen: EP10804205
Anmeldetag: 16. Juni 2010
Veröffentlichung: 3. Februar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/50H01L21/3065H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Sharp Kabushiki Kaisha
Nissin Electric Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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🇯🇵 Nissin Electric

Nissin Electric ist ein japanischer Hersteller elektrischer Anlagen und Halbleiterfertigungsausrüstung mit Sitz in Kyoto. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleitertechnik und Metallurgie, ergänzt durch Schaltungs- und Energietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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