Photosensitive resin composition, and antireflection film and antireflective hard coating film which are produced using same

WO2011013611 Art A1 3. Februar 2011

Anmelder: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011013611
Aktenzeichen: EP10804357
Anmeldetag: 26. Juli 2010
Veröffentlichung: 3. Februar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C08F290/06C08J7/04G02B1/10G02B1/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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