Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and pattern forming method using the same

WO2011013842 Art A1 3. Februar 2011

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011013842
Aktenzeichen: EP10804586
Anmeldetag: 28. Juli 2010
Veröffentlichung: 3. Februar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von