Selective deposition of nanoparticle on semiconductor substrate using electron beam lithography and galvanic reaction

WO2011017016 Art A1 10. Februar 2011

Anmelder: Massachusetts Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011017016
Aktenzeichen: EP10737446
Anmeldetag: 22. Juli 2010
Veröffentlichung: 10. Februar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: B22F1/00B22F9/24B81C1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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