Resist underlayer film-forming composition which contains polymer photoacid generator, and method for forming resist pattern using same

WO2011018928 Art A1 17. Februar 2011

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011018928
Aktenzeichen: EP10808112
Anmeldetag: 14. Juli 2010
Veröffentlichung: 17. Februar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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