Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method

WO2011021723 Art A1 24. Februar 2011

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011021723
Aktenzeichen: EP10752441
Anmeldetag: 19. August 2010
Veröffentlichung: 24. Februar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B65G49/06H01L21/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verpackungs- & Fördertechnik

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