Fabrication method of anti-reflective nanostructure and fabrication method of optical device with integrated anti-reflective nanostructures
WO2011021752
Art A1
24. Februar 2011
Anmelder: Gwangju Institute of Science and Technology 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011021752
- Aktenzeichen
- EP09848532
- Anmeldetag
- 22. Dezember 2009
- Veröffentlichung
- 24. Februar 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B82B3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Gwangju Institute of Science and Technology
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Gwangju Institute of Science and Technology
Das Gwangju Institute of Science and Technology ist eine staatliche technische Hochschule in Südkorea mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt durch Mess- und Prüftechnik sowie organische Chemie. Anmeldungen reichen von 2004 bis in die Gegenwart.
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