Methods and system for patterning a substrate

WO2011022635 Art A2 24. Februar 2011

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011022635
Aktenzeichen: EP10759751
Anmeldetag: 20. August 2010
Veröffentlichung: 24. Februar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H01L21/033H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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