Method of removing photoresist and etch-residues from vias

WO2011022749 Art A1 3. März 2011

Anmelder: Silverbrook Research Pty. Ltd 🇦🇺

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011022749
Aktenzeichen
EP09848584
Anmeldetag
25. August 2009
Veröffentlichung
3. März 2011
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/311B41J2/16G03F7/42
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Silverbrook Research Pty. Ltd
Land
🇦🇺 Australien
🇦🇺 Silverbrook Research Pty Limited

Ehemaliges australisches Forschungsunternehmen für Tintenstrahldruck- und Sensortechnologien, mittlerweile inaktiv.

575 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von

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