Novel compound, process for preparation thereof, radiation -sensitive compositions containing the novel compound, and cured films

WO2011024557 Art A1 3. März 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011024557
Aktenzeichen: EP10811608
Anmeldetag: 2. Juli 2010
Veröffentlichung: 3. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C07D295/10G03F7/031H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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