Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition

WO2011025070 Art A1 3. März 2011

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011025070
Aktenzeichen: EP10812112
Anmeldetag: 31. August 2010
Veröffentlichung: 3. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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