Improved Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition Process

WO2011026064 Art A1 3. März 2011

Anmelder: The Penn State Research Foundation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011026064
Aktenzeichen: EP10812735
Anmeldetag: 31. August 2010
Veröffentlichung: 3. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Penn State Research Foundation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Penn State Research Foundation

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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