Photocurable composition for pattern formation, and method for measuring film thickness using same

WO2011027882 Art A1 10. März 2011

Anmelder: Toyo Gosei Co., Ltd., Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011027882
Aktenzeichen: EP10813828
Anmeldetag: 6. September 2010
Veröffentlichung: 10. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G01B11/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Toyo Gosei Co., Ltd.
Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

2.166 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen