Dopant diffusion solution, paste composition for electrode, and method of forming doping area

WO2011028034 Art A2 10. März 2011

Anmelder: LG Innotek Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011028034
Aktenzeichen: EP10813943
Anmeldetag: 2. September 2010
Veröffentlichung: 10. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01B1/20H01L31/042

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LG Innotek Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 LG Innotek

Südkoreanisches Elektronikunternehmen mit Sitz in Seoul, Tochtergesellschaft der LG-Gruppe. Entwickelt Komponenten für Kamera- und Optikmodule, Halbleiterträger, Motoren und Materialien für Mobilgeräte, Fahrzeuge und Displays.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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