Production method for a silicon nanowire array using a porous metal thin film

WO2011028054 Art A2 10. März 2011

Anmelder: Korea Research Institute of Standards and Science 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011028054
Aktenzeichen
EP10813963
Anmeldetag
3. September 2010
Veröffentlichung
10. März 2011
Rechtsraum
WO
IPC
B82B3/00B82B1/00C01B33/18
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Korea Research Institute of Standards and Science
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Korea Research Institute of Standards and Science

Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.

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