Production method for a silicon nanowire array using a porous metal thin film
WO2011028054
Art A2
10. März 2011
Anmelder: Korea Research Institute of Standards and Science 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011028054
- Aktenzeichen
- EP10813963
- Anmeldetag
- 3. September 2010
- Veröffentlichung
- 10. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B82B3/00B82B1/00C01B33/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Korea Research Institute of Standards and Science
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Korea Research Institute of Standards and Science
Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.
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