Plasma reactor with tiltable overhead rf inductive source

WO2011028312 Art A1 10. März 2011

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011028312
Aktenzeichen: EP10814110
Anmeldetag: 11. Juni 2010
Veröffentlichung: 10. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H05H1/24H05H1/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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