Method for manufacturing mask blank, method for manufacturing mask for transfer, and method for manufacturing reflective mask

WO2011030521 Art A1 17. März 2011

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011030521
Aktenzeichen: EP10815122
Anmeldetag: 30. August 2010
Veröffentlichung: 17. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08G03F1/16H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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