Detent escapement and method for manufacturing detent escapement
WO2011030695
Art A1
17. März 2011
Anmelder: Seiko Instruments Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011030695
- Aktenzeichen
- EP10815292
- Anmeldetag
- 31. August 2010
- Veröffentlichung
- 17. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G04B15/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Seiko Instruments Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Seiko Instruments
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiba, tätig in den Bereichen Präzisionsinstrumente, Uhren und elektronische Bauteile.
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