Radiation-sensitive composition and novel compound
WO2011030737
Art A1
17. März 2011
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011030737
- Aktenzeichen
- EP10815334
- Anmeldetag
- 6. September 2010
- Veröffentlichung
- 17. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C309/17C07C381/12C08F12/02C08F20/10C08F20/28C08F20/54C09K3/00G03F7/004G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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