Photosensitive resin composition and method for producing photosensitive resin film

WO2011030744 Art A1 17. März 2011

Anmelder: Toray Industries, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011030744
Aktenzeichen: EP10815341
Anmeldetag: 7. September 2010
Veröffentlichung: 17. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023G03F7/004G03F7/037G03F7/16H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toray Industries, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toray Industries

Japanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Tokio. Toray entwickelt Kohlefasern, synthetische Fasern, Kunststoffe, Chemikalien sowie Materialien für Textil-, Automobil-, Elektronik- und Luftfahrtindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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