Method for forming thin film and device for forming thin film
WO2011030826
Art A1
17. März 2011
Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011030826
- Aktenzeichen
- EP10815421
- Anmeldetag
- 9. September 2010
- Veröffentlichung
- 17. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/08G11B5/39G11B5/851H01L43/08H01L43/10H01L43/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ULVAC, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
ULVAC
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.
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