Substrate inspecting apparatus and aligning method employed in substrate inspecting apparatus
WO2011030834
Art A1
17. März 2011
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011030834
- Aktenzeichen
- EP10815429
- Anmeldetag
- 9. September 2010
- Veröffentlichung
- 17. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01R31/26H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.