Semiconductor device and production method therefor
WO2011030867
Art A1
17. März 2011
Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011030867
- Aktenzeichen
- EP10815461
- Anmeldetag
- 10. September 2010
- Veröffentlichung
- 17. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/60H01L21/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rohm Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Rohm
Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).
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