Catadioptric System, Aberration Measuring Apparatus, Method of Adjusting Optical System, Exposure Apparatus, and Device Manufacturing Method

WO2011030930 Art A1 17. März 2011

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011030930
Aktenzeichen: EP10760780
Anmeldetag: 14. September 2010
Veröffentlichung: 17. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G02B17/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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