Epitaxial formation structures and associated methods of manufacturing solid state lighting devices

WO2011031907 Art A2 17. März 2011

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011031907
Aktenzeichen: EP10816114
Anmeldetag: 10. September 2010
Veröffentlichung: 17. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L33/02H01L33/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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