Graphene nanoelectronic device fabrication

WO2011031949 Art A1 17. März 2011

Anmelder: Lockheed Martin Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011031949
Aktenzeichen: EP10816146
Anmeldetag: 10. September 2010
Veröffentlichung: 17. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20H01L29/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lockheed Martin Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lockheed Martin

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Rüstungskonzern mit Sitz in Maryland, tätig in Entwicklung von Kampfflugzeugen, Raketensystemen, Satelliten und Verteidigungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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