Electron source, method for producing electron source, and electron emission method
WO2011033989
Art A1
24. März 2011
Anmelder: Tokyo Electron Limited, Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011033989
- Aktenzeichen
- EP10817102
- Anmeldetag
- 9. September 2010
- Veröffentlichung
- 24. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J1/304H01J9/02H01J37/073
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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