Radiation-sensitive resin composition and resist pattern formation method

WO2011034007 Art A1 24. März 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011034007
Aktenzeichen: EP10817120
Anmeldetag: 10. September 2010
Veröffentlichung: 24. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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