Semiconductor device and method for manufacturing same
WO2011034101
Art A1
24. März 2011
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011034101
- Aktenzeichen
- EP10817214
- Anmeldetag
- 15. September 2010
- Veröffentlichung
- 24. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/78H01L21/28H01L21/336H01L21/8234H01L27/088H01L29/41H01L29/417H01L29/423H01L29/49H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sharp Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
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