Semiconductor device and method for manufacturing same

WO2011034101 Art A1 24. März 2011

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011034101
Aktenzeichen
EP10817214
Anmeldetag
15. September 2010
Veröffentlichung
24. März 2011
Rechtsraum
WO
IPC
H01L29/78H01L21/28H01L21/336H01L21/8234H01L27/088H01L29/41H01L29/417H01L29/423H01L29/49H01L29/786
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Sharp Kabushiki Kaisha
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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