Pattern Formation Process

WO2011036778 Art A1 31. März 2011

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011036778
Aktenzeichen: EP09849809
Anmeldetag: 25. September 2009
Veröffentlichung: 31. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: B05D7/24B05D5/00H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kabushiki Kaisha Toshiba
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.649 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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