Radiation-Sensitive Resin Composition

WO2011037036 Art A1 31. März 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011037036
Aktenzeichen
EP10818711
Anmeldetag
13. September 2010
Veröffentlichung
31. März 2011
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004G03F7/039H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen