Photoresist stripper composition and photoresist peeling method employing same
WO2011037300
Art A1
31. März 2011
Anmelder: LG Chem, Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011037300
- Aktenzeichen
- EP09849874
- Anmeldetag
- 26. November 2009
- Veröffentlichung
- 31. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/42H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG Chem, Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Chem
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.
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