Dry Film Photoresist
WO2011037438
Art A2
31. März 2011
Anmelder: Kolon Industries, Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011037438
- Aktenzeichen
- EP10819079
- Anmeldetag
- 28. September 2010
- Veröffentlichung
- 31. März 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/11G03F7/09G03F7/075
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kolon Industries, Inc.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Kolon Industries
Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.
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