High Normality Solution For Removing Freeze Material in Lithographic Applications

WO2011037809 Art A1 31. März 2011

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011037809
Aktenzeichen: EP10819270
Anmeldetag: 16. September 2010
Veröffentlichung: 31. März 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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