Optical Arrangement in A Microlithographic Projection Exposure Apparatus

WO2011039103 Art A1 7. April 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011039103
Aktenzeichen: EP10765984
Anmeldetag: 23. September 2010
Veröffentlichung: 7. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03B7/02G02B7/182

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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