Photosensitive resin composition for photospacer, photosensitive resin transfer material, photospacer and process for production thereof, substrate for liquid crystal display device, and liquid crystal display device

WO2011040413 Art A1 7. April 2011

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011040413
Aktenzeichen: EP10820528
Anmeldetag: 28. September 2010
Veröffentlichung: 7. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/1339G03F7/004G03F7/075G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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