Base-generating agent, photosensitive resin composition, material for pattern-forming comprising said photosensitive resin composition, pattern-forming method using said photosensitive resin composition, and article

WO2011040462 Art A1 7. April 2011

Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011040462
Aktenzeichen: EP10820577
Anmeldetag: 29. September 2010
Veröffentlichung: 7. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/00C07D295/18G03F7/004G03F7/038H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

1.824 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von