Photolithography mask set and masking method

WO2011042329 Art A1 14. April 2011

Anmelder: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011042329
Aktenzeichen: EP10757216
Anmeldetag: 27. September 2010
Veröffentlichung: 14. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives

Die Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives (CEA) ist eine französische staatliche Forschungseinrichtung mit Schwerpunkt Kernenergie, alternative Energien und Grundlagenforschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Software, Energietechnik und Werkstoffkunde. Anmeldungen sind seit 2000 durchgehend belegt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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