High deposition rate of sio2 using atomic layer deposition at extra low temperature
WO2011042882
Art A2
14. April 2011
Anmelder: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011042882
- Aktenzeichen
- EP10771530
- Anmeldetag
- 7. Oktober 2010
- Veröffentlichung
- 14. April 2011
- Rechtsraum
- WO
Abstract
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Anmelder
- Firma
- L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Air Liquide
Französischer Konzern für Industriegase und medizinische Gase, gegründet 1902 auf Basis des Luftverflüssigungsverfahrens von Georges Claude. Beliefert Industrie, Gesundheitswesen und Elektronikfertigung mit Gasen und Anlagentechnik.
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