Film-forming method and plasma processing apparatus

WO2011043263 Art A1 14. April 2011

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011043263
Aktenzeichen: EP10821934
Anmeldetag: 1. Oktober 2010
Veröffentlichung: 14. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28C23C16/14C23C16/56H01L21/285H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von