Photosensitive resin composition and use thereof

WO2011043320 Art A1 14. April 2011

Anmelder: NOF Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011043320
Aktenzeichen: EP10821990
Anmeldetag: 5. Oktober 2010
Veröffentlichung: 14. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023C08F212/08C08F220/06C08F222/14G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NOF Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NOF

NOF Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen mit Schwerpunkt Öl- und Fettchemie sowie Lipiden für pharmazeutische Anwendungen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Medizintechnik, ergänzt um Farben und organische Chemie. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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