Method, inspection apparatus and substrate for determining an approximate structure of an object on the substrate

WO2011045132 Art A1 21. April 2011

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011045132
Aktenzeichen: EP10755127
Anmeldetag: 13. September 2010
Veröffentlichung: 21. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00G03F7/20G01N21/956G01N21/95

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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