Bi-ge-o sintered sputtering target, manufacturing method therefor, and optical recording medium

WO2011046033 Art A1 21. April 2011

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011046033
Aktenzeichen: EP10823301
Anmeldetag: 4. Oktober 2010
Veröffentlichung: 21. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/00G11B7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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