Transfer mask, method for producing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2011046073 Art A1 21. April 2011

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011046073
Aktenzeichen: EP10823341
Anmeldetag: 8. Oktober 2010
Veröffentlichung: 21. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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