Charged particle beam apparatus and film thickness measurement method

WO2011046093 Art A1 21. April 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011046093
Aktenzeichen: EP10823361
Anmeldetag: 12. Oktober 2010
Veröffentlichung: 21. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/28H01J37/20H01J37/22H01J37/244H01J37/26H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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